測(cè)厚儀尼克斯上海篤摯儀器供給
測(cè)厚儀尼克斯上海篤摯儀器技術(shù)參數(shù)：
| 型號(hào) | QNix 4200 |
| 探頭及材質(zhì) | 外置，固定探頭；硬質(zhì)合金 |
| 測(cè)量范圍 鐵/鋼 | 0~3500 µm |
| 測(cè)量范圍 有色金屬 | 0~3000 µm |
| 精度 | ± 2 µm 或讀數(shù)的 2 % |
| 分辨率 | 0~1000 µm：1 µm ；1000~2500 µm：2 µm；2500~3500 µm：5 µm |
| 校準(zhǔn) | 工廠校準(zhǔn)、零校準(zhǔn) |
| 統(tǒng)計(jì) | 平均值，標(biāo)準(zhǔn)差，zui小值，zui大值 |
| 顯示 | 4位數(shù)，字母數(shù)字，10 mm 高 |
| 工作溫度 | 0 °C 至 + 60 °C |
| 表面溫度 | –15 °C 至 + 60 °C |
| 尺寸 | 110 mm x 50 mm x 25 mm |
| 探針尺寸 | Ø 24 mm x 45 mm |
| 重量 | 140 g， 包括電池 |
| 防護(hù)級(jí)別 | IP 52 (防塵、防水滴) |
| 標(biāo)準(zhǔn) | DIN, ISO, ASTM, BS |
| 推薦用途 | 難以接近的位置 |
| 凸面的zui小曲率半徑 | 5 mm |
| 凹面的zui小曲率半徑 | 50 mm |
| zui低作業(yè)高度 | 50 mm |
| zui小基材厚度 – F | 0.5 mm |
| zui小基材厚度 – N | 50 µm |
測(cè)厚儀尼克斯上海篤摯儀器供給：
1、QNix4200涂層測(cè)厚儀采用磁性和渦流兩種測(cè)厚方法，即可測(cè)量磁性金屬集體上非磁性覆蓋層的厚度又可測(cè)量非磁性金屬基體上非導(dǎo)電覆蓋層的厚度。
2、涂層測(cè)厚儀可采用單點(diǎn)校準(zhǔn)和?兩點(diǎn)校準(zhǔn)兩種方法對(duì)QNix 4200涂層測(cè)厚儀進(jìn)行校準(zhǔn)，并可用基本校準(zhǔn)法對(duì)測(cè)量頭的系統(tǒng)誤差進(jìn)行修正，保證儀器在測(cè)量過程中QNix 4200涂層測(cè)厚儀的準(zhǔn)確性；
3、能快速自動(dòng)識(shí)別鐵基體與非鐵基體；
4、QNix 4200涂層測(cè)厚儀具有電源欠壓指示功能；
5、操作過程有蜂鳴聲提示；
6、設(shè)有兩種關(guān)機(jī)方式：手動(dòng)關(guān)機(jī)方式和自動(dòng)關(guān)機(jī)方式；
7、有負(fù)數(shù)顯示功能，保證QNix 4200涂層測(cè)厚儀在零位點(diǎn)的校準(zhǔn)準(zhǔn)確性；
8、有顯示平均值、zui大值、zui小值功能。
使用方法：
1）開機(jī)
按“ON”鍵后QNix 4200涂層測(cè)厚儀發(fā)出一聲鳴響，會(huì)自動(dòng)恢復(fù)上一次關(guān)機(jī)前的參數(shù)設(shè)置后，顯示0.0μm，表示QNix 4200涂層測(cè)厚儀進(jìn)入待測(cè)狀態(tài)。此刻可以測(cè)量待測(cè)工件了。如果一段時(shí)間不使用QNix 4200涂層測(cè)厚儀將自動(dòng)關(guān)機(jī)。
2）關(guān)機(jī)
在無任何操作的情況下，大約3分鐘后QNix 4200涂層測(cè)厚儀會(huì)自動(dòng)關(guān)機(jī)。按一下“ON”鍵，立即關(guān)機(jī)。
3）單位制式轉(zhuǎn)換（公制與英制轉(zhuǎn)換）
在待測(cè)狀態(tài)下，按μm/mil可轉(zhuǎn)換QNix 4200涂層測(cè)厚儀測(cè)量單位。
4）測(cè)量
a)準(zhǔn)備好待測(cè)試工件
b)確定是否需要對(duì)QNix 4200涂層測(cè)厚儀進(jìn)行校準(zhǔn)，如果需要，則選擇適當(dāng)?shù)男?zhǔn)方法進(jìn)行
c)迅速將測(cè)量頭與測(cè)試面垂直地接觸并輕壓測(cè)量頭定位套，一聲鳴響，屏幕顯示測(cè)量值，QNix 4200涂層測(cè)厚儀會(huì)自動(dòng)感應(yīng)被測(cè)基體：感應(yīng)到是磁性基體時(shí)WH-81涂層測(cè)厚儀顯示Fe；感應(yīng)到是非磁性金屬時(shí)，QNix 4200涂層測(cè)厚儀顯示NFe。(鐵鋁雙基型可自動(dòng)識(shí)別，單鐵基型只可測(cè)量磁性底材)
注意：測(cè)量時(shí)要保持QNix 4200涂層測(cè)厚儀處于垂直狀態(tài)。當(dāng)提起測(cè)量頭則可進(jìn)行下一次涂層測(cè)量；
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德國Qnix尼克斯
尼克斯測(cè)厚儀
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